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溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,2N金靶材,产品的缺氧率高。

此外,使用混入了导电性填充剂的电子导电性橡胶的导电辊,其电阻值与施加的电压有关,存在电阻值不固定的问题。特别是采用碳黑作为导电性填充剂时,这些倾向更明显。

由于使用了电子导电性橡胶的导电辊,不论是采用间歇式制法还是连续硫化处理法,都存在电阻值不均匀的问题,所以在数字化、彩色化等提高图像质量的技术日新月异的今天,希望用离子导电性橡胶替代电子导电性橡胶。
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