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真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，镭射纸包装多少钱，形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），通山镭射纸，使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，镭射纸加工价格，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。
镭射纸从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能，因此，镀铝膜在复合包装中的应用十分广泛，镭射纸贴纸，目前主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医l药、化妆品的外包装上。
镭射纸的特色
镭射纸是具有烟用高光泽，全息层都赋予膜的抗静电，防粘连性和上机适应性是十分高的。还耐油墨腐蚀，隔绝水汽，二氧化碳等才能很高。所固有的香气，有很强的防伪性，十分的漂亮、绿色、环保的。颜色是多彩、单一，有单一的彩虹、多种彩虹色、真彩色、是非等，而图画也有二维、三维、多重和动态成像的。
镀铝膜是通过真空镀铝工艺将高纯度在铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态，之后塑料薄膜经过真空蒸发室时，气态的铝原子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金属色彩的薄膜。主要用于风味食品、农产品的真空包装，以及药品、化妆品、烟的包装。另外，镀铝薄膜也大量用作印刷中的烫金材料和商标标签材料等。镀铝膜在复合包装中的应用十分广泛，目前主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医(yi)药、化妆品的外包装上。
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第9年
