微弧氧化技术就是通过电源和溶液配方,让铝、镁、钛合金上生长出一层陶瓷膜层,从而拥有陶瓷的很多性能,镁合金微弧氧化表面要求,如耐腐蚀、耐磨损、耐高压、环保。在手机中框,笔记本壳体,飞机的某些零部件,镁合金微弧氧化,镁合金器材等领域具有广泛的应用价值。
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微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所)(北京市辐射中心)1992年起开发的科研课题,先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”,1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书,2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。
与普通的阳极氧化膜相比,铝 镁合金微弧氧化设备, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,与基质结合紧密, 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良,与基体结合牢固, 且工艺简单,对环境污染小, 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究, 在工业上得到了一定的应用, 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。
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