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东莞菱威纳米科技有限公司
主营：Parylene派瑞林,真空镀膜,表面处理
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离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，真空镀派瑞林，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
派瑞林F粉是一种性能优异的涂层材料，由于其优异的性能和的真空气相沉积工艺使其广泛应用于许多领域。作为保形防护材料在许多方面也优于其他常见涂层材料；派瑞林 F粉已在航天航空、电子、半导体等诸多高科技领域得到了广泛应用，未来，随着工艺、技术和产品质量的不断完善，派瑞林加工，派瑞林F粉在国内的应用规模将快速增长。
派瑞林F粉别名：Parylene F粉、八氟对二二聚体，派瑞林，该材料为含氟的高分子涂层材料。膜层具有高通透性、厚度均匀、耐酸碱、介电特性好、光电和器械等领域都有着广泛的应用。
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第6年
