真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
首先在光学方面,一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后,即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料,也可以作成对某种波长的吸收,而对另一种波长的透射的滤。
真空镀膜加工的基本技能要求
5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率,环保Parylene,提高镀膜资料的利用率,合理匹配堆积源的功率,合理布置堆积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热设备,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的规划应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电设备,维持作业稳定。
真空镀膜技术的特点:
1、镀覆材料广泛:可作为真空镀蒸发材料有几十种,包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样,加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求。
2、真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆:如铝、钛、锆等镀层,甚至陶瓷和金刚石涂层,这是十分难能可贵的。
3、真空镀膜性能优良:真空镀膜厚度远小于电镀层。但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好。孔隙率低,Parylene,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。
4、环境效益优异:真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净,硅胶Parylene,无污水排放,不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下,真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。
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