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硅片除气装置价格-北京硅片除气装置-科创真空产品

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真空除气储存柜设备用途 

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成:真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺:半导体硅片除气;3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;X射线管高真空除气。

真空除气储存柜的技术参数

1. 腔室内尺寸:①②号宽1050x高200x深700mm  ③号宽1050x高380x深700mm;

2. 极限真空度:2×10-5Pa;

3. 加热烘烤:200-800℃烘烤除气功能,±3℃;

4. 整体结构型式:泵箱一体,三个腔室;

5. 观察窗:每一个箱室均配一个Φ100观察窗,北京硅片除气装置,材质为石英玻璃,透光好;

6. 控制方式:一室一泵配置,自动保持真空,可手动独立控制工作;

7. 异常报警功能:具有自动监控各部分的运行状态功能,异常诊断报警,故障诊断,并停止设备运行的功能。

真空除气炉的构成介绍

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成:真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空箱室单元由真空箱、真空测量装置、加热烘烤组件、管道阀门等组成。

真空箱:采用304不锈钢材质制造,分为上中下三个独立的真空箱室,硅片除气装置价格,其内表面在加工后经除油、电抛光处理,保证了较少的藏气,提高了真空箱室的抽空效率和极限真空。真空箱室外部有加强筋,保证真空箱室承压能力。每个真空箱室门中间部位各具有一个Φ100石英观察窗,硅片除气装置品牌,真空箱室与真空获得系统采用柔性软管连接,方便快捷,并减少震动。真空箱室开门为上中下三开门,氟胶圈型式密封,向右侧侧开门。

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