曝光显影是将贴好膜的板进行曝光,透光的部分被固化,没透光的部分还是干膜。然后经过显影,褪掉没固化的干膜,将贴有固化保护膜的板进行蚀刻。再经过退膜处理,这时内层的线路图形就被转移到板子上了。其整个工艺流程如下图。
对于设计人员来说,我们主要考虑的是布线的线宽、间距的控制及布线的均匀性。因为间距过小会造成夹膜,充电宝标牌曝光显影工艺,膜无法褪尽造成短路。线宽太小,膜的附着力不足,造成线路开路。所以电路设计时的安全间距(包括线与线、线与焊盘、焊盘与焊盘、线与铜面等),充电宝标牌曝光显影,都必须考虑生产时的安全间距。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。
曝光显影工艺参数:
贴膜辊温度:100?度-110?度
贴膜机速度:1.6-2.0M/MIN?
曝光显影注意事项:?
整个贴膜程序必须在暗房中进行。
开启干膜箱必须在暗房中进行,干膜必须储在暗房中。
不合格的贴膜板需去膜刷板后重新贴膜,充电宝标牌曝光显影公司,并在曝光之前放置15分钟。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,充电宝标牌曝光显影设计,可免费打。蚀刻:蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理是氧化还原反应中的置换反应:2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
显影:显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中,让影像显现的一个过程。通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
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