工艺工序
清洗——中和——三连水洗——阳极氧化——水洗——中和——二连水洗——染色——二连水洗——封孔——二连纯水洗——干燥——下挂全检
曝光显影工序:壳件抛光——喷涂感光油墨——曝光显影——去除非保护区油墨——喷砂——次阳极氧化——镭雕出导电位——二次氧化
总结:曝光氧化在二次氧化 工艺前添加抛光和曝光显影工艺。
所以用米吐尔显影的影像特点是感光度高、影调柔和、层次丰富。这些特点正是负光材料所要求的。因此,它是负片显影液中的主要成分。除此之外,米吐尔的显影作用受离子和温度的影响较小,因此显影性能比较稳定从上述的特点可以看出,充电宝曝光显影订做,米吐尔的某些性能恰与对二酚相反,所以一般实用配方中,多数将米吐尔和对二酚一起配合使用,简称为M-Q显影液。在一定范围内改变两者的相对含量,云浮充电宝曝光显影,可以获得各种照相性能要求的显影液。
径向误差补偿方法。在PMD1000设备中,显影液是通过安装在腔体上方的喷嘴以扇形喷洒到掩模版上。当掩模版处于低位置时,喷嘴角度被调整到对准掩模版中心。在掩模版旋转过程中,充电宝曝光显影厂,掩模版中心一直处于新鲜显影液覆盖范围,充电宝曝光显影厂家,因此掩模版中心位置的显影程度会高于周边位置,从而造成中心CD比周边大。如果径向误差分析显示这种情况,需要通过调整掩模版显影高度来对周边进行补偿。
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