离子镀
工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材
主要原理是利用气体放电现象,耳机配件真空电镀哪里好,将薄膜材料解离成离子状态,而后沉积于基板上。
离子镀的基本镀膜系统为PVD系统,只是多加入反应性气体,使其与蒸发后的薄膜材料反应,而后沉积在基板上形成化合物,所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同,是基材靶材的化合物。
离子镀基本上包括三个步骤 :
1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;
2. 将气态原子变成离子态,以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子,耳机配件真空电镀工厂,以达到始之离子化的程度;
3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压,以达到加速离子的能力。
离子镀原理
离子镀的特点如下:
1. 离子镀可在较低温度600度下进行;
2. 附着性良好;
3. 绕射性良好-带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;
4. 沉积速度快,可达1~5um,而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;
5. 加工性及薄膜材料的选择性广,可加工除金属外,陶瓷,玻璃 ,塑胶均可,耳机配件真空电镀,而薄膜材料的选择也很广泛,金属,合金,化合物皆可。
相对蒸发电镀,磁控溅射有如下的特点:
1.膜厚可控性和重复性好
2.薄膜与基片的附着力强
3.可以制备绝大多数材料的薄膜,包括合金,化合物等
4.膜层纯度高,致密
5.沉积速率低,设备也更复杂
磁控溅射镀膜按照电源类型可分为:直流溅射、中频溅射、射频溅射。
反应溅射的应用:
1.现代工业的发展需要应用到越来越多的化合物薄膜。
2.如光学工业中使用的TiO2、SiO2和TaO5等硬质膜。
3.电子工业中使用的ITO透明导电膜,耳机配件真空电镀厂家在哪,SiO2、Si2N4和Al2O3等钝化膜、隔离膜、绝缘膜。
4.建筑玻璃上使用的ZNO、SnO2、TiO2、SiO2等介质膜
真空镀膜和光学镀膜的概念和区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
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