






用显微镜对图像进行高度放大的成像系统,显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果,在曝光过程中光学系统的每一部分(照明系统、样品、显微镜光学系统、成像光学系统和相纸平面)都准确地一同移动,不存在相对位移,成像也会很清晰。如果样品相对物镜产生了运动,则像就会模糊。在光学干涉测量、全息及运用相似的规律时,控制相对运动都是很重要的。

光学平台广泛运用于光学、电子、精密机械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和无损检测等领域,以及其他机械行业的精密试验仪器、设备振动隔离的关键装置中。 随着***的设备和工艺的发展,使纳米量级的测量成为可能。例如,变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度,目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域,已生产出线宽在亚微米量级的集成电路,提出测量准确率小于50纳米的精度要求。

早期的双面加工,是在一般的二轴机上,采用上下平模,使用挡圈和分离片对平板的两个面同时进行加工,其装置如图12-1所示,主要进行精磨和抛光的双面加工。加工时,下模1随机床主轴转动,上模5在摆架带动下摆动,同时随下模的转动而转动,其转动没有动力,光学平板厂家价格,被加工平板2放在分离片3内,摆动的上模将带动挡圈,从而带动被加工平板在下模平面上平动,同时平板亦可以在分离片圈内随上下模的转动而转动。

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