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平面度(Surface Flatness):光学平台的平面度,通常是指单位面积内,被测实际表面相对其理想平面的变动量。通常国外光学平台的平面度指标为:±0.1mm/600mm×600mm,中航世纪的光学平台,通过精密磨削工艺,将平面度指标提高到0.02 ~ 0.05mm/600mm×600mm。但严格意义上来说,光学平台平面度,对于隔振性能,没有任何影响,甚至若为了追求高平面度,往往会牺牲掉光学平台的隔振性能。

随着***的设备和工艺的发展,使纳米量级的测量成为可能。例如,变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度,目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域,已生产出线宽在亚微米量级的集成电路,提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如,用显微镜对图像进行高度放大的成像系统,显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果,在曝光过程中光学系统的每一部分(照明系统、样品、显微镜光学系统、成像光学系统和相纸平面)都准确地一同移动,不存在相对位移,成像也会很清晰。如果样品相对物镜产生了运动,则像就会模糊。在光学干涉测量、全息及运用相似的规律时,控制相对运动都是很重要的。

学实验平台使用时应保持清洁,阻尼光学平台厂家,避免各种污染,使用期间不要对着仪器说话有助于防尘、使用时注意防震;测量时动作要轻缓,尽量使身体部位离开实测量时动作要轻验台面,以防震动;所用的光学元件比较精密,不能用手触摸光学元件光学表面。能用手触摸光学元件光学表面。所有光学元件固定在光学支架上时,置要放正,固定螺丝不要旋得过紧,以防镜片受压要放正,固定螺丝不要旋得过紧,不要旋得过紧变形和损坏。实验完毕,应将所有光学元件取下,变形和损坏。实验完毕,应将所有光学元件取下,按顺序放回光学附件盒中。按顺序放回光学附件盒中。

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