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洁净棚的温湿度控制非常重要,不合宜的温湿度会影响洁净效果。但是温湿度的控制主要还是根据工艺要求来确定的,工艺性高也就代表着洁净度越高。

湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,洁净棚定制,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。

具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,武汉洁净棚,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。

洁净棚(又称简易无尘室),是一种可提供局部高洁净环境的工作空间。洁净棚主要由箱体、风机、初效空气过滤器、空气过滤器、灯具等组成,洁净棚安装,具备多种洁净等级及空间搭配,可针对在一般等级的洁净室中局部地区需要高洁净度的地方做局部增设以降低成本。

目前的洁净棚结构为:顶部安装空气过滤器用于向下送洁净空气,四周设置防静电围帘,洁净棚哪家好,将棚内空气与棚外空气隔离开来,从而在棚内形成独立的洁净空间。这种结构的洁净棚,各围帘之间相互分离,存在大量间隙,洁净棚内部与外部的隔离性差,洁净棚内部的空气容易受到外界空气影响,降低洁净棚内部空气的洁净度,且围帘通过螺栓固定在洁净棚的框架上,安装和拆卸都比较麻烦。

洁净棚内的气流是左右洁净室性能的重要因素,一般洁净室的气流速度是选用0.25~0.5m/s之间,此气流速度属微风区域,容易受人、机器、设备等的动作干扰。虽然可以提高风速来弥补机器设备和人员的干扰来保持原有的洁净度、但因风速的提高,将影响运转成本的增加,所以应在满足要求的洁净度的同时,能以适当的风速供应,以达到适当的风速来达到经济环保的效果。?

另一方面想要达到洁净室洁净度的稳定效果,气流的保持和来回的换气次数是洁净度保持的重要因素,如果气流和换气次数无法保持的话,那么,对该无尘室的风速和洁净等级都会有较大的影响,特别是要实现高洁净度是相对比较困难的。

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