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天津子润净化工程股份有限公司
主营：空气污染处理
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洁净室的冷热源机组：a.电驱动的压缩式制冷机电驱动的压缩式制冷机主要以氟里昂、氨为制冷剂，民用制冷机大部分采用氟里昂作为制冷剂。按冷却介质的种类可分为空气冷却和水冷却两种形式，按压缩机种类可分为活塞式、螺杆式、离心式三种形式，按提供的冷源或热源情况可分为冷水机组和热泵机组两种形式。人身净化道路为了在操作中尽量削减人活动发生的污染，人员在进入净化区之前，有必要替换净化服并吹淋、洗澡、消毒。这些办法即“人身净化”简称“人净”。人净用房中替换净化服的房间应予送风，并对进口侧等其他房间坚持正压，对厕所、淋浴坚持少许正压，天津洁净车间施工公司，而厕所、淋浴应坚持负压。
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，天津洁净车间施工，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，天津洁净车间，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳温度范围为35—45%。洁净室中的气压规定对于大部分洁净空间，天津洁净车间技术，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则：1．洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。3.相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间。压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
一般生产区工艺清洁要求是什么？1）前处理车间的每个操作区域只能处理一种中药材，替换品种时要清场。提取车间的每个操作区域只能寄存一个制剂所有的中药材耗损料，替换制剂时要清场，避免穿插污染和混杂。2）中药质料按规则进行前处理，处理后装入清洁容器内转入下一道工序。复方混合提取所用中药质料应按一次投料量备料，并按品种规整堆放在每个操作区域规则的方位，经前处理加工合格后方可投料。
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第5年
