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网点:网点是组成印刷图案的ZUI小单位。凹版网点由于制版方式的不同,版辊上所反映的网点也有所差别:电雕雕刻网点随着网成的变化,网点的大小和深度也跟随着变化;涂布腐蚀网点随着网成的变化,只在网点大小上变化;激光版网点不同网成的变化一般则表现在网点深度上。






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光学掩模板的应用
光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成电路)芯片,还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片,光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影,这种方法就是熟称的曝光,这个时候的掩膜也可称为光罩。
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随着冲版量的不断增加和空气中的CO2不断溶入,显影液中的OH-浓度会下降,pH值将越来越低,制版报价,显影时间应慢慢变长,至后在正常曝光条件下PS版无法显影,这就是显影液疲劳的现象。但随着显影液pH值的降低,碱液对氧化层和涂层树脂的腐蚀力下降,版材的网点再现性及耐印力比用新配制的显影液好一些。但必须注意两点,一是冲版量必须控制在显影液容许范围内;


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