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北京创世威纳-感应耦合等离子体刻蚀机生产厂家

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感应耦合等离子体刻蚀机的结构二

创世威纳——***感应耦合等离子体刻蚀供应商,我们为您带来以下信息。

刻蚀腔体刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的***结构,它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有:上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

以上就是关于感应耦合等离子体刻蚀的相关内容介绍,感应耦合等离子体刻蚀机,如有需求,感应耦合等离子体刻蚀机哪家好,欢迎拨打图片上的热线电话!

感应耦合等离子体刻蚀机的原理

感应耦合等离子体刻蚀法(Inductively Coupled Plasma Etch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,在下电极的RF 射频作用下,这些等离子体对基片表面进行轰击,感应耦合等离子体刻蚀机工作原理,基片图形区域的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体生成挥发性物质,以气体形式脱离基片,从真空管路被抽走。

如果需要进行刻蚀,和蚀刻后,除污,清除浮渣,表面处理,等离子体聚合,等离子体灰化,或任何其他的蚀刻应用,我们能够制造客户完全信任的等离子处理系统,以满足客户的需要。我们既有常规的等离子体蚀刻系统,也有反应性离子蚀刻系统,我们可以制造系列的产品,也可以为客户定制特殊的系统。我们可以提供快速/***的蚀刻,减轻等离子伤害,并提供的均匀性。

等离子体处理可应用于所有的基材,感应耦合等离子体刻蚀机生产厂家,甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗,等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低,因此,低压等离子体也能处理敏感性材料。

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等离子刻蚀机

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等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式,这种设计的是富有弹性的,用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE),顺流等离子体(downstream),直接等离子体(direction plasma)。

北京创世威纳-感应耦合等离子体刻蚀机生产厂家由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司有实力,信誉好,在北京 昌平区 的电子、电工产品制造设备等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善创新理念将促进创世威纳和您携手步入辉煌,共创美好未来!

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