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沈阳鹏程真空技术有限责任公司
主营：电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束
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| 先生： |
什么是蒸发镀膜？
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为***以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。
ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，全自动钙钛矿蒸发镀膜机厂家，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
技术要求：
1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为Φ350×450mm，不锈钢材料，圆柱形前开门结构，全自动钙钛矿蒸发镀膜机生产厂家，内带有防污板。
2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；
2.1、真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa；
2.2、系统漏率≤1×10-7PaL/s。
3、蒸发源系统：有机源蒸发源一个，容积5ml，一台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；
4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ100mm的样品，载玻片；旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，烘烤加热温度为：室温～400℃，测温控温。
6、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
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ZF500有机蒸发镀膜机
广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4
真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm
样品台：尺寸为4英寸4平面样品；
有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；
样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）
4套挡板系统：动密封手动控制；
样品挡板（１套），全自动钙钛矿蒸发镀膜机，磁力拨叉，
膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
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电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，全自动钙钛矿蒸发镀膜机公司，希望对同行业的朋友有所帮助。
蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发，连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中，原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，随着蒸气原子不断地冲击表面，各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。
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第5年
