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安泰科气体化工生产和提供的工业气体包括氧气、氮气、氩气、二氧化碳、氢气、氦气、焊接保护气、***气体以及各种混合气。这些气体被广泛应用于钢铁、金属、化学、食品、制药、汽车和电子工业以及、科研和环保等各个工业领域。

蚀刻气体 (Etch ing gases) :蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来, 这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是, 图形边缘整齐, 线条清晰, 图形变换差小, 且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,厂家, 通常多为氟化物气体,储罐厂家, 例如四氟化碳、三氟化氮、等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污, 所以

其应用范围日益广泛。

1. 特种气体 (Specialty gases) :指那些在特定领域中应用的, 对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多, 通常可区分为电子气体、标准气、环保气、***气、焊接气、杀菌气等, 广泛用于电子、电力、石油化工、***、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。

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标准气体使用注意事项

    标准气体的特殊性,对使用过程中有着特殊的要求,很多使用者由于操作的不规范,使得数据偏差很大,以下提出在标准气体使用过程中应该注意的几个方面:

    三、样品气的置换:由于标准气都要经过减压器和管线后才能取样,要准确取样必须将减压器和管线进行充分的置换,这种置换不是简单意义上的吹扫,目前我们基本上都选用带压力表的减压器,特别是压力表里的死体积非常大,因此需要不断将钢瓶阀打开关闭反复3次以上,每次将减压器里的气体排尽,然后再吹扫系统才能正确取样。带压力表的减压器置换起来很麻烦,如果不会正确置换这种减压器,不但会浪费很多气体,而且会对分析带来很大的误差,液氧储罐厂家,尤其对于微量氧、氮的分析,因此我们建议标准气体的分析检测用阀门***丨好采用不带减压器的针形微调阀。

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安泰科带您了解如何安装 实验室集中供气系统

实验室用气要求:载气流量恒定、气体纯度高,集中供气可以为实验室选用的分析设备提供量值和压力稳定的气体。实验室用气相对于瓶气的经济性:节省实验室空间;不需要更换气瓶,不需要切断气体以保证气体的连续供应;减少钢瓶的使用量,因为使用同一气体的所用使用点来自同一个气源;降低运输费用,减少退还给气体公司的空瓶中的余气量。相比瓶气,液氧厂家,管道用气更具使用安全性和保证存储。

电子气体 (Elect ron ic gases) :半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4 _6 m+ p- _4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级、L S I (大规模集成电路) 级、VL S I (超大规模集成电路) 级和UL S I (特大规模集成电路)级。

4. 外延气体 (Cp itax ial gases) :在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD) 的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4 种, 主要用于外延硅淀积, 多晶硅淀积, 淀积氧化硅膜, 淀积氮化硅膜, 太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。

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