真空镀膜机的发展前景如何?
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
电子束镀膜仪
镀膜机分多种类,蒸发式,电子束镀膜仪生产,溅射式,还很多特殊用途的。
现在来讲,电子束镀膜仪,光学镀膜主流为电子束加热蒸发式,其性能参数和蒸发仓,蒸发源,真空形成系统,控制系统的精度直接相关,
溅射式,多用在平板玻璃光学膜装饰膜,现在镜片也有用此的趋势,我见过的不多,有昭和的,shincron的。都比较***市价1000万以上。
发展前景,目前感觉还会在蒸发式上。***比较高,电子束镀膜仪哪有卖,而且容易控制品质。如
需求量的话,低中档应该还有增加,且比较看好,毕竟国内光学行业还在发展阶段
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电子束蒸发与磁控溅射镀膜的分析
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
电子束镀膜仪
附着力
附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力,也是保证器件***的重要因素。溅射原子能量比蒸发原子能量高1—2个数量级。高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多,产生较高的热能,部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象,在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层,而且,在成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗清除了附着力不强的溅射原子,增强了溅射原子与基片的附着力,因而溅射Al膜与基片的附着力较高。
测定附着力所采用的方法是测量Al膜从基片上剥离时所需要的力或者能量,我们采用剥离水法来测定附着力。
设薄膜单位面积的附着能为γ,则宽度为b,长度为a的薄膜的总附着能E=abγ(1)
用于剥离该薄膜的力F所作的功
Wp=Fa(1-sin(θ))(2)
如果是静态剥离并忽略薄膜弯曲时所产生的弹性能,则F所作的功近似等于薄膜的总附着能,即Wp=E,于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)
(3)式中F随着θ角的变化而变化,不能真正反映薄膜的附着性能。当所加剥离力与薄膜垂直,即θ=0°时,则式简化为
F=bγ(4)
根据测量所得的F便可计算出附着能γ=F/b。如果要直接计算单位长度的附着力f,根据定义并采用上述方法(θ=0°)进行剥离可得f=γ。可见,附着力的大小和附着能γ的数据相同,由于Al膜的附着能γ较高,所以其附着力较大。实验测得的数据是:溅射Al膜的平均附着力25N,电子束蒸发Al膜的平均附着力为9.8N。这些数据和理论分析结论一致。
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什么东西可以用到蒸发镀膜材料
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
电子束镀膜仪
什么东西可以用到蒸发镀膜材料
电子束蒸发镀:利用电子束加热使膜材汽化蒸发后,凝结在基片表面成膜是真空蒸镀技术中一种重要的加热方法。这种装置的种类很多。随着薄膜技术的广泛应用,不但对膜的种类要求繁多,而且对膜的质量要求更加严格。电阻蒸发镀已不能满足蒸镀某些金属和非金属的需要。电子束热源能获得远比电阻热源更大的能量密度,电子束镀膜仪多少钱一台,数值可达到104-109w/cm2,因此可以将膜材加热至3000-6000c。这就为蒸发难熔金属和非金属材料如钨、钼、锗、SiO2、AI2O3等提供了较好的热源。而且由于被蒸镀的材料是放在水冷坩埚内,因而可避免容器材料的蒸发及容器材料与膜材之间的反应,这对提高膜的纯度是极为重要的。另外,热量可直接加到膜材表面上,因此热***,热传导和热辐射损失少。
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泰科诺公司(图)-电子束镀膜仪生产-电子束镀膜仪由北京泰科诺科技有限公司提供。泰科诺公司(图)-电子束镀膜仪生产-电子束镀膜仪是北京泰科诺科技有限公司()今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:朱经理。温馨提示:以上是关于电子束镀膜仪-泰科诺公司的详细介绍,产品由北京泰科诺科技有限公司为您提供,如果您对北京泰科诺科技有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ,您也可以查看更多与电子/电工产品制造设备相关的产品!
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